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TSMC社が300mm工場への投資を加速、
MEMSビジネスにも本格参入
[2008年06月号]
TSMCジャパン代表取締役社長の小野寺誠氏
また、2008年第1四半期の売り上げをプロセス別に見ると、65nmが15%、90nmが28%、0.11/0.13μmが20%、0.15/0.18μmが23%、0.25/0.35μmが10%、0.5μmが4%であった。中でも、65nmは2007年後半から本格的に立ち上がり、「2008年第1四半期の売り上げは、前年同期と比べて26倍も拡大した」(小野寺氏)という。TSMC社は、45nmの量産に引き続き、2008年3月末から40nmの初期量産を開始した。小野寺氏は、「2008年後半には45/40nmの売り上げが数字として表れてくるだろう」とした。
300mm工場への設備投資を加速
2008年第1四半期におけるTSMC社の生産能力は、200mmウェーハ換算で218万枚となった。同社は2008年第4四半期には生産能力を245万4000万枚(200mm換算)まで増強する予定で、2008年通年では、937万4000枚(同)規模の生産能力を確保する計画だという。特に300mmウェーハ対応の「Fab-12」および「Fab-14」への投資を進め、2008年通年ではそれぞれ85万8000枚(200mm換算)および80万6000枚(同)規模の生産能力まで拡大することを計画している。
2008年第1四半期における設備投資の実績は、4億8400万米ドルとなった。小野寺氏は、「90nm、65nm、さらに45nmの需要が高い。そうした需要に応えるため、設備投資は前倒しで進めているような状況だ」と説明した。
2008年第1四半期における設備投資の実績は、4億8400万米ドルとなった。小野寺氏は、「90nm、65nm、さらに45nmの需要が高い。そうした需要に応えるため、設備投資は前倒しで進めているような状況だ」と説明した。
MEMSファウンドリにも本格参入
TSMC社は、低消費電力技術のロードマップとして、40nmプロセスである「40LP(low power)」での量産を2008年後半から、また32nmプロセスの「32LP(low power)」での量産を2009年後半から2010年にかけて開始する計画だという。
同社はこのほか、本格的にMEMS(micro electro mechanical systems)ファウンドリサービスのビジネスを開始すると発表した。今後、バルクMEMSにおける、ディープシリコンエッチングや高精度アライメントの技術をはじめ、CMOSとの融合技術、パッケージング技術などを提供し、ワンストップショッピングでのサービスを展開していくと説明した。
(鉄井 亮一)
同社はこのほか、本格的にMEMS(micro electro mechanical systems)ファウンドリサービスのビジネスを開始すると発表した。今後、バルクMEMSにおける、ディープシリコンエッチングや高精度アライメントの技術をはじめ、CMOSとの融合技術、パッケージング技術などを提供し、ワンストップショッピングでのサービスを展開していくと説明した。
(鉄井 亮一)











