米Intel社は、今年（2008年）3件目となる太陽エネルギ分野への投資を行った。同社は同社の投資部門であるIntel Capital社を通して、半導体/薄膜材料メーカーの米Voltaix社に1250万米ドルを投資した。この投資により、Voltaix社の生産能力の拡大が加速すると見られる。

　Voltaix社は、半導体製造の前工程で使用される電子化学物質/ガスを製造しているほか、太陽電池製品向けの化学的気相成長（CVD）前駆体のメーカーでもある。

　Voltaix社の社長を務めるJohn P de Neufville氏は、「薄膜太陽電池、特に建築物と一体になった太陽電池（BIPV）製品が本格的に普及する準備が整ったと当社は考えている。今回の資金調達によって、当社は薄膜エネルギ技術に対して高まる要求に対応すべく、最先端の製造施設を建設できる」と述べた。

　Intel社のエグゼクティブバイスプレジデントでIntel Capital社の社長を務めるArvind Sodhani氏は、「半導体デバイスの製造においては、新材料の導入が不可欠となってきた。今回のVoltaix社への投資は、Intel Capital社の掲げるICの製造分野、あるいは薄膜太陽電池のようなクリーンエネルギ分野の新技術を育てるという戦略の一環である」と付け加えた。

　Intel社は2008年6月、初めて太陽電池市場に参入した。同社はNew Business Initiatives部門の主要事業の1つを分離独立させ、新会社のSpectraWatt社を設立。設立に当たって5000万米ドルの投資ラウンドを主導した。

　さらに2008年7月初め、Intel社はCIS（カルコパイライト系）系薄膜太陽電池モジュールメーカーであるドイツSulfurcell Solartechnik社に対して1億3370万米ドル（8500万ユーロ）の投資ラウンドを主導。これによってクリーンエネルギのポートフォリオを拡大した。

（Electronic News）