富士通研究所は、財団法人高輝度光科学研究センター(兵庫県佐用郡)の放射光施設SPring-8を利用して、磁気ヘッド用新材料の各元素の磁化しやすさの測定に成功した。今回、磁化特性が向上するメカニズムを解明できたことで、将来的に1平方インチあたり1Tビットのハードディスク・ドライブ (HDD)を実現できる新材料開発の可能性が高まった。富士通は2005年4月に開催された国際応用磁気学会(INTERMAG)で、従来の鉄・コバルトのみの材料より約20％磁化されやすい[FeCo/Pd]n超格子膜を発表していた。
　富士通は鉄・コバルト(FeCo)とパラジウム(Pd)の2種類の膜を数10回繰り返し積層した磁性材料を試作していた。通常では磁化しないパラジウムが鉄・コバルトと接して、どのような効果を及ぼしているのかは、従来の超電導量子干渉計(Superconducting Quantum Interference Device：SQUID)では測定できなかった。富士通は、文部科学省のナノテクノロジ総合支援プロジェクトおよび先端大型研究施設戦略活用プログラムの支援を得て、円偏光X線を利用できるSPring-8放射光により、鉄、コバルト、パラジウムの各元素のX線吸収率を評価し、各元素別に磁化しやすさを測定することに成功した。また、SPring-8のBL25SU(軟X線固体分光ビームライン)による測定の結果、パラジウムが鉄・コバルト層と接すると磁化していることが確認でき、鉄・コバルト層も従来より磁化しやすくなることが分かった。円偏光は、偏光面が円を描く偏光で、磁性物にあてると磁化の大きさに比例して異なる吸収率を示す。この研究成果は、8月30日に滋賀県草津市の立命館大学で開催された第67回応用物理学会で発表された。